高真空氣氛爐以摻鉬電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制,控溫精度高；內(nèi)膽采用耐溫、耐壓合金材料；爐門(mén)配有循環(huán)水冷，爐門(mén)與爐膽的可靠密封；可選配真空裝置，可以通氣氛抽真空。高真空氣氛爐主要用于硬質(zhì)合金、粉末冶金行業(yè)生產(chǎn)各種粒度的碳化鎢粉、碳化鈦粉、碳化釩粉等金屬粉末及復(fù)合金屬粉末。
高真空氣氛爐是在真空環(huán)境中進(jìn)行加熱的設(shè)備，一般由爐膛、電熱裝置、密封爐殼、真空系統(tǒng)、供電系統(tǒng)和控溫系統(tǒng)等組成。高真空氣氛爐按加熱元件分為真空電阻爐、真空感應(yīng)爐、真空電弧爐、真空自耗電弧爐、電子束爐和等離子爐等。
高真空氣氛爐特點(diǎn):
１、2300℃超高溫爐體，可兼容滿(mǎn)足細(xì)、中、粗顆粒料WC粉和復(fù)合料碳化加熱工藝。
２、高真空氣氛爐采用數(shù)顯化可編程智能控溫系統(tǒng)，全自動(dòng)高精度完成測(cè)溫控溫過(guò)程，系統(tǒng)可按給定升溫曲線升溫，并可貯存二十條共400段不同的工藝加熱曲線。
３、采用純水冷卻系統(tǒng)；數(shù)字式流量監(jiān)控系統(tǒng)，采用高性能中頻接觸器對(duì)爐體進(jìn)行自動(dòng)轉(zhuǎn)換；的PLC水、電、氣自動(dòng)控制和保護(hù)系統(tǒng)。
４、該系統(tǒng)對(duì)碳化質(zhì)量有明顯改善，與傳統(tǒng)碳化爐相比，具有反應(yīng)*、粒度均勻、化合含碳量高、游離含碳量低等優(yōu)勢(shì)，而且產(chǎn)量高、勞動(dòng)條件好、使用壽命長(zhǎng)。
高真空氣氛爐是專(zhuān)為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)對(duì)陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、新材料開(kāi)發(fā)、特種材料、建材、金屬、非金屬及其它化和物材料進(jìn)行燒結(jié)﹑融化﹑分析、生產(chǎn)而研制的設(shè)備。
高真空氣氛爐主要用途和適用范圍:
可應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空或氣氛條件下的熱處理工藝。也用于冶金、機(jī)械、輕工、商檢、高等院校及科研部門(mén)、工礦企業(yè)電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、釬焊等工藝。
更新時(shí)間：2018-01-17
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